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JAX超快光聲顯微成像系統(tǒng)采用單路或雙路的泵浦/探測(cè)模式的飛秒激光器，重復(fù)頻域在數(shù)百兆赫茲（如下圖）。它被稱為外差法技術(shù)，具有高穩(wěn)定性和高精度等優(yōu)點(diǎn)，允許用戶一鍵采集一個(gè)測(cè)量點(diǎn)的所有參數(shù)，比傳統(tǒng)技術(shù)快10 000到100 000倍。頻移允許通過一個(gè)雙光源即時(shí)掃描并在數(shù)個(gè)毫秒內(nèi)獲得樣品信息，探測(cè)時(shí)間分辨率小于1ps，這就是異步光學(xué)采樣技術(shù)。可創(chuàng)建所研究參數(shù)的Mapping成像。

Robo-Met.3D全自動(dòng)連續(xù)拋磨成像三維微結(jié)構(gòu)分析測(cè)試系統(tǒng)是美國(guó)UES和美國(guó)空軍實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合設(shè)計(jì)開發(fā)的產(chǎn)品。為材料分析領(lǐng)域提供了一種高精度和全自動(dòng)可視化三維微結(jié)構(gòu)重構(gòu)分析平臺(tái)，Robo-Met.3D 三維3D微結(jié)構(gòu)分析測(cè)試系統(tǒng)使用靈活，經(jīng)濟(jì)效益高，可廣泛應(yīng)用到各材料領(lǐng)域快速獲得3D微結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)。

M系列光束筆尖陣列光刻系統(tǒng)：聚合物筆無(wú)掩模光刻納米制造系統(tǒng)（polymer pen lithography）聚合物筆納米無(wú)掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列，采用蘸筆光刻DPN的方式，將待沉積的材料（墨水）浸蘸在筆尖陣列上，筆尖可控的與基底表面接觸，從而在基底表面批量成型所需圖案，加工納米微米圖案無(wú)需光掩膜，且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率。